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    和dapcvd法使用的气源相同，主要是氩气，反应气体是甲烷和氢气。

    现如今，这种方法已经形成了多种形式。

    不过不管是按真空室的形成来分的石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式，还是按微波与等离子体的耦合方式来分的表面波耦合式、直接耦合式和天线耦合式。

    它们的沉积速率，都是和微波功率有关的。

    举个例子，用5kw微波功率的mpcvd法，可以以10μm/h的速率沉积工具级金刚石薄膜，以8μm/h的速率沉积热沉级金刚石薄膜，以3μm/h    的速率沉积光学级金刚石薄膜。

    而用10kw微波功率的时候，他的沉积速率可以达到25μm/h。

    也就是说，通过增大微波功率，可以提高金刚石薄膜的沉积速率。

    除此之外，金刚石薄膜的沉积速率还和气体压力有关。

    在高微波功率，高的甲烷与氢气体积流量比，160torr气体压力下，可以制备出150μm/h的多晶金刚石薄膜。

    如果在同等条件下，将压力提高至310torr下，可以制备出165μm/h的单晶金刚石薄膜。

    “气体压力……”

    “微博功率……”

    陈舟在草稿纸上写下这两个词汇。

    拿笔点了两下，随手便划了两个圈。

    这是重点。

    放下笔，陈舟滑动鼠标，继续看文献的内容。

    mpcvd法之所以会成为最广泛的方法，是因为这种方法比dapcvd法制备的金刚石薄膜质量更好。

    很好的解决了膜的致密度不高的问题同时，还可以产生大体积的金刚石薄膜。

    此外，这种方法还能在曲面或者复杂表面上进行金刚石薄膜的沉积。

    而且mpcvd法无内部电极，可以避免电极放电污染和电极腐蚀。

    可以说是满足了制备高质量金刚石薄膜的条件。

    但是，就像四十三所实验室的装置一样，mpcvd法的沉积速率是硬伤。

    看完了这篇详细介绍mpcvd法的文献后，陈舟不禁想到。

    “如果有dapcvd法一半的速度，再加上mpcvd法的制备质量，那这事不就成了吗？”


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